6. Формирование оптического излучения

Изучив материал этой главы, студент должен иметь представление о свойствах и параметрах оптического излучения применительно к использованию его в микролитографии.

Студент должен знать:

 законы, понятия и определения скалярной теории дифракции, являющиеся основой формирования микроизображений при микролитографии;

 методы преобразования фундаментальных законов оптики в прикладные технологические зависимости.

Студент должен уметь:

 анализировать физические закономерности, определяющие процесс микролитографии в ближнем поле;

 математически описывать оптические процессы формирования микроизображения;

 рассчитывать профили распределения пространственной интенсивности излучения при контактной микролитографии и литографии с микрозазором;

 оценивать применимость оптических систем для реализации процессов микролитографии с заданными параметрами.