6.3. Основы теории формирования микроизображений

Формирование микроизображений является основным этапом микролитографии, на котором закладываются размер формируемого микрорельефа и его профиль.

Как для контактного, так и для проекционного способа экспонирования основной причиной искажений и размытия изображения является дифракция.

Излучение, проходящее через фотошаблон, дифрагирует на границах его прозрачных и непрозрачных участков, что ведет к изменению размеров элементов и формы изображения.

Для описания и оценки возникающих погрешностей необходим расчет дифракционного распределения интенсивности излучения на поверхности фоторезиста. Традиционно такой расчет выполняют на основе скалярной теории дифракции Френеля — Кирхгофа. Эта теория построена с учетом волновой природы света и основана на использовании принципа Гюйгенса, объясняющего прохождение световых волн через преграду.